1. Camera di spettroscopia: struttura Paschen-Runge, reticolo cerchio Rowland con diametro 400 mm; sistema di vuoto intermittente, che garantisce un tempo di funzionamento della pompa vuoto inferiore al 5%.
2. Sistema ottico: reticolo concavo prodotto dalla tedesca Zeiss, densità di incisioni 2400 l/mm, dispersione spettrale di primo ordine pari a 1,04 nm/mm.
3. Sistema di controllo e misura: tecnologia di rilevazione spettrale completa con rilevatore CMOS lineare ad alte prestazioni della giapponese Hamamatsu. È uno strumento universale per l’analisi degli elementi in acciai e metalli non ferrosi, adatto per matrici Fe, Cu, Al, Ti, Pb e altre.
4. Sorgente di eccitazione: tecnologia sorgente scintilla plasma completamente digitale unita alla preaccensione ad alta energia (HEPS).
5. Tempo di analisi: variabile in base al tipo di campione, generalmente inferiore a 40 secondi.
6. Intervallo di lunghezze d’onda misurabili 140–680 nm, risoluzione pixel 10 pm.
1. Camera di spettroscopia: struttura Paschen-Runge, reticolo cerchio Rowland con diametro 400 mm; sistema di vuoto intermittente, che garantisce un tempo di funzionamento della pompa vuoto inferiore al 5%.
2. Sistema ottico: reticolo concavo prodotto dalla tedesca Zeiss, densità di incisioni 2400 l/mm, dispersione spettrale di primo ordine pari a 1,04 nm/mm.
3. Sistema di controllo e misura: tecnologia di rilevazione spettrale completa con rilevatore CMOS lineare ad alte prestazioni della giapponese Hamamatsu. È uno strumento universale per l’analisi degli elementi in acciai e metalli non ferrosi, adatto per matrici Fe, Cu, Al, Ti, Pb e altre.
4. Sorgente di eccitazione: tecnologia sorgente scintilla plasma completamente digitale unita alla preaccensione ad alta energia (HEPS).
5. Tempo di analisi: variabile in base al tipo di campione, generalmente inferiore a 40 secondi.
6. Intervallo di lunghezze d’onda misurabili 140–680 nm, risoluzione pixel 10 pm.